压印

纳米压印的光栅图形形貌3D测量-3D白光干涉仪应用

1 引言 纳米压印技术因低成本、高 throughput、高分辨率的优势，成为微纳光栅制备的核心工艺，广泛应用于光学显示、光通信、太阳能电池等领域。光栅图形的线宽、周期、深度、侧壁倾角及表面粗糙度等形貌参数，直接决定其光学衍射效率、偏振特性等核心性能，需实现纳米级精度的全面表征。3D白光干涉仪凭借非接触测量、纳米级分辨率及全域三维形貌重建能力，可精准捕捉光栅微观形貌特征，为纳米压印光栅的工艺优化与质量管控提供可靠技术支撑。本文重点探讨3D白光干涉仪在纳米压印光栅图形形貌测量中的应用。 2 3D白光干涉仪测...